Deposición de películas delgadas mediante plasmas de baja energía

dc.contributor	Reyes Romero, Pedro Guillermo
dc.contributor.author	González Dominguez, Marcos Crescencio
dc.date.accessioned	2023-02-28T03:09:04Z
dc.date.available	2023-02-28T03:09:04Z
dc.date.issued	2022-04-08
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/20.500.11799/138151
dc.description	Tesis de trabajo doctoral en ciencias, fisica.	es
dc.description.abstract	En el presente trabajo de investigación se desarrolló un método para la deposición de películas delgadas a base de Carbón (CNx) y de óxidos metálicos (Cu2O) a través de una descarga eléctrica a baja presión haciendo uso de una fuente pulsada. Para la síntesis de películas a base de carbón se utilizó un hidrocarburo mezclado con un gas reactivo (CH3CH2OH/N2), donde el CH3CH2OH actúa como una fuente de carbón y al interaccionar con las especies del N2 pueden formar radicales CN los cuáles son depositadas sobre la superficie de un metal en forma de película delgada.	es
dc.language.iso	spa	es
dc.rights	openAccess	es
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by/4.0	es
dc.subject	Plasmas	es
dc.subject	película delgada	es
dc.subject	óxido cuproso	es
dc.subject.classification	CIENCIAS FÍSICO MATEMÁTICAS Y CIENCIAS DE LA TIERRA	es
dc.title	Deposición de películas delgadas mediante plasmas de baja energía	es
dc.type	Tesis de Doctorado	es
dc.provenance	Académica	es
dc.road	Verde	es
dc.organismo	Ciencias	es
dc.ambito	Nacional	es
dc.cve.CenCos	21901	es
dc.cve.progEstudios	1011	es
dc.modalidad	Tesis	es

Ficheros en el objeto digital

Nombre: Tesis Marcos 2022 ...

Tamaño: 7.222Mb

Formato: PDF

Descripción: Tesis de doctorado ...

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